Mini-PLD
Pulsed Laser Deposition
Gerätespezifikationen
Anzahl der PLD Targets | 1 |
Substratgröße | bis zu 10x10 mm² |
Temperaturbereich | 25-700 °C |
Prozessgase | Ar2, O2 |
Laser | KrF Excimer-Laser mit 248 nm, 750 mJ |
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Materialwissenschaft
Kompetenzzentrum Materialcharakterisierung
Anzahl der PLD Targets | 1 |
Substratgröße | bis zu 10x10 mm² |
Temperaturbereich | 25-700 °C |
Prozessgase | Ar2, O2 |
Laser | KrF Excimer-Laser mit 248 nm, 750 mJ |