Forschung

Plasma in einer Vakuumkammer

Forschung

Wir benutzen moderne Methoden der Oberflächenforschung für die Untersuchung funktioneller Materialien und deren Grenzflächen. Hierzu verwenden wir integrierte Ultrahochvakuumsysteme mit oberflächenempfindlichen Messmethoden wie Photoemission(XPS/UPS), Rastersondenverfahren (STM/AFM), niederenergetische Ionenstreuung (LEIS) und Elektronenbeugung (LEED) und Verfahren zur Herstellung dünner Schichten wie Verdampfen, close-spaced sublimation, Magnetron Kathodenzerstäubung und metallorganische Gasphasendeposition. Wir sind auf folgenden Gebieten aktiv: